据说，当时李家的人在激烈的竞拍中，也有了火气。整个竞拍过程持续了二十二轮，最后以高出底价五倍以上的价格，才尘埃落定。
这几天，胡杨几乎天天都泡在芯通国际和魅力半导体，位于深海的工厂，消磨时光。
魅力半导体利用层堆叠技术生产出来的最新闪存，已经实现了量产，并开始源源不断的给客户供货。
而孟如松带领团队，在深海成功攻克了二次曝光技术，将制程从技术层面推进到n\\n。
不过这还只是实验成果，想实现大规模量产，最起码还需要一年左右的时间。
但这一次的成功，仿佛是给孟如松带来了灵感，他和他的团队陆续研发出诸如“遮挡法”等先进工艺，相信在不久以后，这些技术上的突破就会大放异彩。
“胡总，从理论上来说，我们以现有的装备为基础，进行挖潜改造以及工艺上的突破，可以将制程推进到最高0n\\n这个程度。再往下，比如n或者是n制程，就绝对无法做到。”
0n制程以下，光刻机应用的光源就会发生根本的改变。像asl会同s星、台电、英特等公司，正在研发下一代极紫光光刻技术，也就是euv光刻技术。
这个没有任何的其他捷径可走。
这也就意味着，如果国际光刻设备巨头，停止给芯通国际供货，那么公司的制程将在很长一段时间之内，停留在0n这个节点。
当然，如果国产光刻设备厂商能够攻克suv光刻机，那么这个难题也能得到完美的解决。
“孟总，现在还有时间。按照制程工艺--个月向前推进一代的规律，咱们还有年以上的时间。这段时间，我们只能期待国产光刻设备的顺利突破。”
胡杨不知道年以后整个大环境是怎么样的，但他不相信国内的半导体产业会走当年rb的老路。
“也是，时间其实还充裕。考虑到良品率等因素，实际上我们的时间可能还会多一些。再说了，目前国产蚀刻机已经在逐渐拉近和国际先进水平的差距，我就不信在光刻机这一块就没有进展。”
孟如松为了支持微电子设备的发展，不惜血本采购了几台0n国产光刻机。
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